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多功能X射线光电子能谱仪

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¥ 3000000.00
  • 表面成分分析、多层薄膜结构深度剖析、化学态成像等
  • 可兼备XPS、UPS、ARPES、AES等多种谱学测量
  • 采集硬件全自动控制、自动化采集及分析
  • 大光斑高通量设计

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产品详细

具体参数

  • 主分析腔体
    采用SUS316L不锈钢腔体,并安装一层μ金属材质的内衬
  • 样品点残余磁场
    典型值≤20mGauss;最优值≤5mGauss
  • 极限真空
    ≤5 ×10^-9 mbar(配置离子泵、分子泵等)
  • 半球能量分析器
    R150型
  • 电子平均半径
    150 mm
  • 能量范围
    1 eV ~ 1500 eV
  • 通过能 Ep
    1 ~ 500 eV,多个可选
  • 能量分辨率
    ≤50 meV FWHM @ Ep = 2 eV,Ek = 9.1 eV
  • 角度分辨率
    ≤ 0.1°@ 0.1 mm光斑
  • 透镜工作模式
    传输模式、(角分辨模式可选)
  • 采集模式
    固定模式、扫描模式
  • 样品台
    全自动五轴样品台
  • 样品扫描范围
    直径60 mm区域
  • 移动范围
    X:±25 mm, Y:±25mm , Z:0~15 mm; 常中心旋转:0~360°
  • 倾角范围
    0°~ 90° 用于角分辨分析,角度分辨≤±1°
  • 总光电子通量
    ≥1×10^14 phs/s
  • 光斑尺寸
    典型值100μm(最优值10μm)
  • 单色器
    石英晶体
  • X射线源
    μXR275型
  • 光子能量
    Al靶 @ 电压15KV
  • 适用气体
    适用气体 He,Ne,Ar,Kr,Xe等
  • 激励源
    固态射频源
  • 紫外光源
    VUV430-AF型
  • 光通量
    ≥1×10^10 phs/s
  • 配件
    氩离子枪、中和枪等
  • 烘烤系统
    热风循环方式烘烤;最高可达200℃
  • 控制系统
    真空实时显示、控制以及系统保护