多功能X射线光电子能谱仪
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3000000.00
- 选择型号
- 表面成分分析、多层薄膜结构深度剖析、化学态成像等
- 可兼备XPS、UPS、ARPES、AES等多种谱学测量
- 采集硬件全自动控制、自动化采集及分析
- 大光斑高通量设计
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主分析腔体采用SUS316L不锈钢腔体,并安装一层μ金属材质的内衬
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样品点残余磁场典型值≤20mGauss;最优值≤5mGauss
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极限真空≤5 ×10^-9 mbar(配置离子泵、分子泵等)
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半球能量分析器R150型
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电子平均半径150 mm
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能量范围1 eV ~ 1500 eV
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通过能 Ep1 ~ 500 eV,多个可选
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能量分辨率≤50 meV FWHM @ Ep = 2 eV,Ek = 9.1 eV
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角度分辨率≤ 0.1°@ 0.1 mm光斑
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透镜工作模式传输模式、(角分辨模式可选)
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采集模式固定模式、扫描模式
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样品台全自动五轴样品台
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样品扫描范围直径60 mm区域
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移动范围X:±25 mm, Y:±25mm , Z:0~15 mm; 常中心旋转:0~360°
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倾角范围0°~ 90° 用于角分辨分析,角度分辨≤±1°
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总光电子通量≥1×10^14 phs/s
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光斑尺寸典型值100μm(最优值10μm)
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单色器石英晶体
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X射线源μXR275型
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光子能量Al靶 @ 电压15KV
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适用气体适用气体 He,Ne,Ar,Kr,Xe等
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激励源固态射频源
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紫外光源VUV430-AF型
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光通量≥1×10^10 phs/s
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配件氩离子枪、中和枪等
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烘烤系统热风循环方式烘烤;最高可达200℃
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控制系统真空实时显示、控制以及系统保护